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平面拋光機精研磨時研具的技術要求如何?

2021-04-15


平面拋光機精研磨時研具的技術要求如何?

平面拋光機對精研磨時研具的主要技術要求如下:

1、金相組織,圖中其基體主要是:中等細片狀珠光體十鐵素體(約占lo好左右)均勻分布,石墨;它的形狀為B型,即無定向枝狀為主,其大小為5、6級,主要是實際長度尺寸為120~30微米大小。

2、而精研磨時的化學成分其經驗佳值如下。平面拋光機化學成分

3、平面拋光機中使用的拋光盤其硬度為HBl30到180左右。而對同一研具來說,其表面硬度差不應該大于HD5。

4、與平面研磨機中粗研磨時類似之處在于,其他們的組織結晶都應該細密而均勻,不應該有縮孔、縮松、氣孔、夾砂以及砂眼等鑄造瑕疵。

在精研磨時研具,是指嵌入白剛玉研磨粉的粒度在一定值下所使用的用于拋光工件的拋光盤研具。它主要的特點是嵌砂性能好,特別是嵌入的微粒要嵌牢,耐磨性要求很強,主要是含磷量

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